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簡要描述：VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
產(chǎn)品型號：VTC-16-1HD廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-05-30訪 問 量：1795詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。單靶磁控濺射儀配備有一個靶槍，可選擇強磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非導磁材料的濺射鍍膜，強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
1、一個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、靶頭在樣品臺正下方，脆性靶材安裝更方便，樣品不易被污染。
3、可制備多種薄膜，應用廣泛。
4、體積小，操作簡便。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀 |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-16-1HD |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
| 主要參數(shù) | 1、電源電壓：220v 50Hz |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 14、產(chǎn)品規(guī)格： |
| 標準配件 | 1直流電源控制系統(tǒng)1套 |
| 可選配件 | 1、金、銦、銀、白金等各種靶材，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。 |
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